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本文从晶体生长物理基础和流体力学的基本理论出发,结合硅单晶制备过程中热质输运的分析,采用实验和数值分析相结合的方法,以大直径硅单晶制备为主要研究对象,研究热场结构、控制参数和外加磁场对大直径硅单晶生长的影响。通过数值分析的手段,研究了结构参数和控制参数对晶体生长特性的影响,确定了晶体制备的工艺条件;采用28inch和32inch热场制备出400mm和45 蓝宝石长晶炉回收,多晶硅铸锭炉回收,提拉式长晶炉回收,多晶长晶炉回收,卧式长晶炉回收,拉式单晶炉、收购直拉式单晶炉-85型/90型/95型/100型种种整套单晶回收提炉装备、分子泵回收,真空泵回收,真空流量计回收,plc编程回收,控制屏回收,离子泵回收,涡轮分子泵回收,螺杆真空泵回收,涡旋高真空泵回收,大直径硅单晶的制备与数值分析\大直径硅单晶是微电子工业的基础材料,广泛应用于集成电路备件和硅片制造领域,是现今信息社会的基石。根据半导体设备材料产业协会(SEMI)的报告,大直径硅单晶的需求依然旺盛,450mm硅单晶要继续开发研究。当前主流集成电路设备用部件急需400mm硅单晶并提出低成本的要求,开发400mm硅单晶和研究晶体制备的工艺过程,无疑具有重要的理论意义和现实需求。同时,开发下一代450mm集成电路用硅晶体、研究外加磁场对改善晶体质量的作用,对于我国未来制造450mm硅片具有重要的战略意义。
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结构类似传送带式炉) D. 连续式转筒炉 E. 辊底炉(料盘在辊子上运动) F. 转底炉,中频电炉设备主要应用领域: 1、机床导轨的淬火处理; 2、煤矿用截齿的焊接; 3、矿山用一字钎头和梅花钎头的焊接; 4、直径30以下螺栓的热变形; 5、直径30以下的螺母的热变形; 6、金属粉末重熔; 7、直径300以下链轮的热处理; 8、直径80以下轴的淬火处理; 9、直径80以下工件的横截面处理; 10、各种手工工具的淬火处理(锤子,斧头,管钳,断线钳)